台式数控超声波清洗器
产品型号 SD5200H超声功率（W） 200加热功率（W） 300容量（L） 10槽内尺寸（mm)L×W×H 300×240×150外形尺寸（mm)L×W×H 360×270×310超声频率（KHz）40选配 降音盖、排水网架、降音盖、排水价格：5400 5600
浸泡清洗机
W-200 浸泡清洗机采用清洗剂溶液浸泡结合超声波工作方式，柔性、高效地达到清洁效果，广泛应用食品安全、生物医药、石油化工等行业的各种实验器皿、工具器件等清洁。
反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统基于模块化设计制造，采用一款通用的真空处理舱及机柜。
台式数控超声波清洗器
产品型号 SD2800H超声功率（W） 600加热功率（W） 600容量（L） 22.5槽内尺寸（mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸（mm)L×W×H 570×330×330超声频率（KHz） 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格（元） 10500（元） 11000（元）
圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 ）
台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。
紫外臭氧清洗仪
美国Biofore 的ProCleaner的产品线提供非常有竞争力的价位，并给研究者提供更多的选择机会。该ProCleaner装置的用途是消除分子程度的污染，使探针和表面尽可能清洁。